攝像頭模組清洗機CMC-800
產品參數
- 產品代碼:
- 包裝規(guī)格:
- 應用范圍:
- 產品描述:
產品詳情
產品詳細 |
機器簡介:
CMC-800是攝像頭模組專業(yè)清洗機,用於攝像頭類產品,如wafer,CMOS, Holder等表面微塵清洗。
機器特點:
1、攝像頭類模組類產品表麵粉塵,雜質專用清洗機器;
2、鏡面鏽鋼一體化封閉機身,對工作環(huán)境無污染,適合無塵車間使用要求;
3、可更換清洗盤清洗多種產品,清洗盤按產品定做;
4、PLC自動控制,操作方便快捷;
5、透明防爆前門,安全作業(yè),便於觀察;
6、全系統(tǒng)儀表顯示,隨時監(jiān)控清洗狀況;
7、採用二流體清洗,清洗精度高,對產品零損傷,純水消耗量極小;
8、旋轉式噴桿,避免二次污染產品;
9、配備靜電消除裝置、腔壁加熱裝置,輔助清洗達到最佳效果;
10、配備2級空氣過濾系統(tǒng),壓縮空氣符合ISO8573、1標準;
11、機身緊湊,佔用面積小;
12、完全使用超純水清洗,符合RoHS標準。
機器規(guī)格:
設備外觀尺寸
880mm(L)×960mm(W)×1880mm(H)
清洗盤規(guī)格
定制(清洗盤直徑<?550mm)
清洗方式
二流體清洗
乾燥方式
高速離心甩乾
電源供應
AC380V 50HZ
總功率
7KW
耗電量
清洗時: 3.5kw/h
待機時: 1kw/h
傳動馬力
3HP
環(huán)境過濾方式
0.3μm;99.999%
空氣過濾方式
1μm×1;0.01μm×1
離心轉速
100-1500RPM
純水消耗量
0-7L/Min
氣體消耗量
10-30m3/H
清洗壓力
液體壓力:3-8Kgf/cm2 空氣壓力:0.2-0.5Mpa
DI水供應
流量:>7LPM 電阻率:>17MΩ
氣源供應
壓力:0.45-0.7Mpa;流量:>30m3/H(潔淨度符合清洗要求)
純水入口徑
?12mm軟管或PT1/2″內螺紋
氣源入口徑
?12mm氣管
排水出口徑
PT 1″內螺紋
排氣口口徑
4″×2(需加強抽風,風速大於3m/sec)
機器淨重
450KG
|