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攝像頭模組清洗機CMC-800

產品參數

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產品詳情

產品詳細

機器簡介:

CMC-800是攝像頭模組專業(yè)清洗機,用於攝像頭類產品,如wafer,CMOS, Holder等表面微塵清洗。

機器特點:

1、攝像頭類模組類產品表麵粉塵,雜質專用清洗機器;

2、鏡面鏽鋼一體化封閉機身,對工作環(huán)境無污染,適合無塵車間使用要求;

3、可更換清洗盤清洗多種產品,清洗盤按產品定做;

4、PLC自動控制,操作方便快捷;

5、透明防爆前門,安全作業(yè),便於觀察;

6、全系統(tǒng)儀表顯示,隨時監(jiān)控清洗狀況;

7、採用二流體清洗,清洗精度高,對產品零損傷,純水消耗量極小;

8、旋轉式噴桿,避免二次污染產品;

9、配備靜電消除裝置、腔壁加熱裝置,輔助清洗達到最佳效果;

10、配備2級空氣過濾系統(tǒng),壓縮空氣符合ISO85731標準;

11、機身緊湊,佔用面積小;

12、完全使用超純水清洗,符合RoHS標準。

機器規(guī)格:

設備外觀尺寸

880mmL×960mmW×1880mmH

清洗盤規(guī)格

定制(清洗盤直徑<?550mm)

清洗方式

二流體清洗

乾燥方式

高速離心甩乾

電源供應

AC380V 50HZ

總功率

7KW

耗電量

清洗時: 3.5kw/h

待機時: 1kw/h

傳動馬力

3HP

環(huán)境過濾方式

0.3μm;99.999%

空氣過濾方式

1μm×10.01μm×1

離心轉速

100-1500RPM

純水消耗量

0-7L/Min

氣體消耗量

10-30m3/H

清洗壓力

液體壓力:3-8Kgf/cm2     空氣壓力:0.2-0.5Mpa

DI水供應

流量:>7LPM  電阻率:>17MΩ

氣源供應

壓力:0.45-0.7Mpa;流量:>30m3/H(潔淨度符合清洗要求)

純水入口徑

?12mm軟管或PT1/2″內螺紋

氣源入口徑

?12mm氣管

排水出口徑

PT 1″內螺紋

排氣口口徑

4″×2(需加強抽風,風速大於3m/sec

機器淨重

450KG